Kombinuje maximální komfort spolu s minimálními nároky na údržbu. Maska je velmi oblíbená u profesionálů pro její snadné použití, dobře se snáší i při celodenním nošení. Provozně nejlevnější řešení pro ochranu proti částicím.
Filtr třídy A2 slouží k zachycení částic organických látek s bodem varu nad 65oC do koncentrace 5000 ppm. Částicový filtr P3 zachycuje 99,95% všech prachových a aerosolových částic do velikosti 0,3 µm.
Schváleno dle EN140: 1998. APF 20. Částicový filtr P3 je vyroben ze speciálního média HESPA (High Efficiency Synthetic Particulate Airfilter) a umožňuje záchyt částic hexavalentního (šestimocného) chromu a částic manganu při práci s nerezavějícícmi ocelemi, oxidů zinku při práci s pokovenými výrobky, částic hliníku a výparů olova, s filtrem proti nežádoucím pachům.
Nyní s čistícím ubrouskem zdarma.
Oblasti použití
A2P3: Organické plyny a páry do 5000 ppm
A2P3: Práce s konvenčními barvami, výroba kompozitů, výroba a použití barev a inkoustů, zpracování lepidel, výroba a zpracování kaučuku, pesticidy, opravy povlakovaných kovů
Cena včetně filtrů.
Hmotnost 258 g
